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大樣片磁控濺射鍍膜機(jī)工作原理值得信賴 北京創(chuàng)世威納

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-27 19:59  







真空磁控濺射鍍膜

所謂濺射就是用荷能粒子(通常用惰性氣體的正離子)去轟擊固體(以下稱靶材)表面,從而引起靶材表面上的原子(或分子)從其中逸出的一種現(xiàn)象。這一現(xiàn)象是格洛夫(Grove)于1842年在實(shí)驗(yàn)研究陰極腐蝕問題時(shí),陰極材料被遷移到真空管壁上而發(fā)現(xiàn)的。光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)(1)減反射膜減反射也稱增透膜,這種膜主要鍍?cè)谕该鞯驼凵渎驶咨?,如玻璃上鍍減反射膜,常見的膜層結(jié)構(gòu)采用高、低折射率膜層疊加而成(2)彩色鍍膜彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜,其膜層材料和結(jié)構(gòu)類似減反射鍍膜。

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磁控濺射鍍膜機(jī)技術(shù)原理

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)是通過真空磁控濺射鍍膜機(jī)實(shí)現(xiàn)的,鍍膜機(jī)內(nèi)由不同級(jí)別的真空泵抽氣,在系統(tǒng)內(nèi)營(yíng)造出一個(gè)鍍膜所需的真空環(huán)境,真空度要達(dá)到鍍膜所需的本底真空,一般在(1~5)×10-8 Pa。在真空環(huán)境中向靶材(陰極)下充入工藝氣體氣(Ar),氣在外加電場(chǎng)(由直流或交流電源產(chǎn)生)作用下發(fā)生電離生成離子(Ar ),同時(shí)在電場(chǎng)E的作用下,離子加速飛向陰極靶并以高能量轟擊靶表面,使靶材產(chǎn)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉積在PET基片上形成薄膜。同時(shí)被濺射出的二次電子在陰極暗區(qū)被加速,在飛向基片的過程中,落入設(shè)定的正交電磁場(chǎng)的電子阱中,直接被磁場(chǎng)的洛倫茲力束縛,使其在磁場(chǎng)B的洛倫茲力作用下,以旋輪線和螺旋線的復(fù)合形式在靶表面附近作回旋運(yùn)動(dòng)。電子e的運(yùn)動(dòng)被電磁場(chǎng)束縛在靠近靶表面的等離子區(qū)域內(nèi),使其到達(dá)陽(yáng)極前的行程大大增長(zhǎng),大大增加碰撞電離幾率,使得該區(qū)域內(nèi)氣體原子的離化率增加,轟擊靶材的高能Ar 離子增多,從而實(shí)現(xiàn)了磁控濺射高速沉積的特點(diǎn)。在運(yùn)用該機(jī)理開發(fā)磁控膜的過程中,要注意以下幾個(gè)問題:①保證整體工藝中各個(gè)環(huán)節(jié)的可靠性。具體包括靶材質(zhì)量、工藝氣體純度、原膜潔凈程度、原膜質(zhì)量等基礎(chǔ)因素,這一系列因素會(huì)對(duì)鍍膜產(chǎn)品的終質(zhì)量產(chǎn)生影響。②選擇合適的靶材。要建立的膜系是通過對(duì)陰極的前后順序布置實(shí)現(xiàn)的。③控制好各環(huán)節(jié)的工藝性能及參數(shù)。在運(yùn)用該機(jī)理開發(fā)磁控膜的過程中,要注意以下幾個(gè)問題:①保證整體工藝中各個(gè)環(huán)節(jié)的可靠性。如適合的本底真空度、靶材適用的濺射功率、工藝氣體和反應(yīng)氣體用量與輸入均勻性、膜層厚度等??傊?,只有控制好以上各因素,才能夠保證所開發(fā)的鍍膜PET具有穩(wěn)定的顏色、優(yōu)異的性能和耐久性。

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磁控濺射鍍膜機(jī)的注意事項(xiàng)


1、保持機(jī)器內(nèi)艙各部位的清潔;

2、關(guān)注真空度指標(biāo);

3、檢查并記錄抽真空的時(shí)間,如有延長(zhǎng),立刻檢查造成的原因;

4、記錄濺射功率和時(shí)間(一般濺射機(jī)的銀靶設(shè)定功率為0.6千瓦,金靶的設(shè)定功率為0.75千瓦,鉻的行走速率為9000pps),如有異常,立刻檢查造成的原因;

5、根據(jù)鍍出石英振子的散差,調(diào)整遮擋板的各部尺寸;

6、濺鍍后的石英振子要用3M膠帶檢查其牢固度;

7、測(cè)試并記錄鍍好的石英振子主要指標(biāo),如:頻率、電阻、DLD等;

8、將不良品挑出:電極錯(cuò)位、劃傷、臟污、掉銀等(工位上要有不良品示意圖)。


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