金屬化學(xué)氣相沉積加工過(guò)程中的常見(jiàn)故障排除

金屬化學(xué)氣相沉積加工工藝流程比較長(zhǎng)、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會(huì)很多。如金屬化學(xué)氣相沉積前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調(diào)及雜質(zhì)污染、生產(chǎn)環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個(gè)細(xì)節(jié)之中。

金屬化學(xué)氣相沉積加工在影響產(chǎn)品質(zhì)量的五大因素〔操作者、設(shè)備、材料、工藝方法及生產(chǎn)環(huán)境)中，人是位的。金屬化學(xué)氣相沉積故障的發(fā)生都與操作工專(zhuān)業(yè)技能和工作責(zé)任心有關(guān)。工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實(shí)現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時(shí)鍍兩種材料達(dá)到鍍混合膜。金屬化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)管理人員對(duì)操作工指導(dǎo)和監(jiān)督不力，這些在PVD鍍膜企業(yè)較普遍存在的狀況,金屬化學(xué)氣相沉積使得故障在所難免。要減少金屬化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)故障，提高金屬化學(xué)氣相沉積從業(yè)人員的專(zhuān)業(yè)技能和工作責(zé)任心是十分重要的。

高真空離子鍍是常見(jiàn)的塑膠產(chǎn)品電鍍技術(shù)中的目前市場(chǎng)新興興起的一種技術(shù)。高真空離子鍍，又稱(chēng)高真空鍍膜加工。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1。如今高真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種相來(lái)說(shuō)比較盛行的一種做法，做出來(lái)的商品金屬質(zhì)感強(qiáng)，表面亮度高.而相對(duì)別的的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，可選擇原料種類(lèi)多，這也是近年來(lái)一些電鍍加工廠(chǎng)比較推崇的鍍膜電鍍技術(shù)。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對(duì)作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來(lái)產(chǎn)品外觀(guān)損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。因?yàn)樗芰匣耐獗砜赡懿黄交绻麤](méi)有先噴底漆直接使用高真空鍍膜的話(huà)，如果客人要求很高，產(chǎn)品可能會(huì)因?yàn)楣ぜ獗聿还饣?，而使加工出?lái)的產(chǎn)品光澤度相對(duì)會(huì)低一點(diǎn)，金屬質(zhì)感相對(duì)也會(huì)有所下降，如果基料有氣泡，水泡這狀況更高明顯，就無(wú)法滿(mǎn)足客人需求。而高真空離子鍍它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，也就是我們俗稱(chēng)的真空鍍膜。