一、鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類?可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍(2)電鍍(3)化學(xué)反應(yīng)(4)熱處理(5)物理或機(jī)械處理二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)?加熱方式分為：(1)電阻加熱(2)感應(yīng)加熱(3)電子束加熱(4)雷射加熱(5)電弧加熱各具有的特點(diǎn)：(1)電阻加熱：這是一種zui簡(jiǎn)單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。(2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。(3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場(chǎng)聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達(dá)30000C。

單獨(dú)或混合使用酸溶液、陽(yáng)極溶解(電解)等進(jìn)行除銹，使用磷酸鹽處理、鉻酸鹽處理、發(fā)黑、陽(yáng)極氧化等使金屬表面生成一層保護(hù)膜，均屬于此種方法。這種方法能夠達(dá)到復(fù)雜的花紋效果，打造復(fù)古或是現(xiàn)代的設(shè)計(jì)需求。4.鏡面處理不銹鋼的鏡面處理，簡(jiǎn)單來(lái)講就是對(duì)不銹鋼表面進(jìn)行拋光，拋光手法分為物理拋光和化學(xué)拋光。也可以在不銹鋼表面進(jìn)行局部拋光，拋光的等級(jí)分為普通拋光，普通6K，精磨8K，chao強(qiáng)精磨10K效果。鏡面給人以gao檔簡(jiǎn)約，時(shí)尚未來(lái)的感覺(jué)。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

此外，采用溶劑熱鍍鋅時(shí)，zui常用的ZnCl2與NH4Cl混合水溶液的配比不正確時(shí)，沒(méi)有形成共晶點(diǎn)，特別是在濃度過(guò)高的情況下，在支撐板焊接角縫圓形孔內(nèi)極易出現(xiàn)夾灰性漏鍍。造成鋅層脫落的主要原因有：表面氧化、有硅化合物、冷扎乳化液太臟、NOF段氧化氣氛及保護(hù)氣體lou點(diǎn)太高、空燃比不合理、氫氣流量偏低、爐子有氧滲入，帶鋼入鍋溫度偏低，RWP段爐壓偏低及爐門吸風(fēng)、NOF段爐溫偏低，油脂蒸發(fā)不盡、鋅鍋鋁含量偏低、機(jī)組速度太快、還原不充分、鋅液中停留時(shí)間太短、鍍層偏厚。