眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。

真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調及雜質污染、生產環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節(jié)之中。

對于五金真空加工電鍍IP金色，我們是嚴謹?shù)?。在加工之前會有產品前處理，清洗干凈物件表層，防止污漬以及多余的殘留物影響加工品質。加工過程中會有技術人員設計合理的加工流程，嚴格把關鍍膜時間以及爐內溫度，確保電鍍品質統(tǒng)一穩(wěn)定。加工后有品質檢控，包括測試耐磨，耐腐蝕度以及環(huán)保級數(shù)等。

真空電鍍設備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設備加熱后要進行保溫，真空電鍍設備設置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復合保溫層兩種形式。

真空鍍膜加工、PVD真空電鍍特性

金屬表面耐磨/顏色均勻一致，持久光澤，在各種正常空氣和陽光直射環(huán)境條件下保持良好外觀。顏色深韻、光亮，可減少清洗和擦亮顏色所必須的時間和成本對環(huán)境不會產生任何污染，在生產和佩戴過程中避免化學/具有生物兼容性。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）    鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）   鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞，產生多種反應。

（3）   鍍料粒子在基片表面的沉積