佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜技術(shù)也叫薄膜技術(shù)，是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的膜體。鍍膜技術(shù)是初起源于20世紀(jì)30年代，直到70年代后期才得到較大發(fā)展的一種技術(shù)。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：占空比：占空比是指脈沖偏壓的通斷時(shí)間比，占空比越大，同一個(gè)周期時(shí)間內(nèi)偏壓輸出時(shí)間越長(zhǎng)，增大占空比可以提高離子轟擊的能量，有利于提高膜基結(jié)合力和膜層致密性和膜層的硬度，但會(huì)提高工件的溫升。目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤(rùn)滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域.

物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)（由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù)）。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

磁控濺射目前是一種應(yīng)用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對(duì)新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積（MOCVD）生長(zhǎng)困難及不適用的材料薄膜沉積而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。包括歐姆接觸的A1、Cu、Au、W、Ti等金屬電極薄膜及可用于柵絕緣層或擴(kuò)散勢(shì)壘層的TiN、Ta205、Ti0、A1203、Zr02、A1N等介質(zhì)薄膜沉積。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：在膜層沉積時(shí)，用于增加離子能量，促進(jìn)和改善薄膜生長(zhǎng)，提高膜基結(jié)合力。

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，習(xí)而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽0窄縫。等其他方法難鍍的部位。