之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價(jià)更少。

顯影就是在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。該技術(shù)能在金屬表面創(chuàng)造出具有高度裝飾性的淺浮雕，而又不影響其結(jié)構(gòu)的完整性。

經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻：一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

顯影液液溫應(yīng)控制在一定范圍內(nèi)，如果顯影液溫度低,顯影液化學(xué)活性降低，溶解感光膠層能力下降，顯影不充分，

圖文部分的網(wǎng)點(diǎn)百分率比正常的擴(kuò)大，并且空白部分起臟。 顯影液溫度過高也會(huì)使已曝光的圖文部分溶解，網(wǎng)點(diǎn)還原性變差，同時(shí)造成耐印力降低。

比較適宜的顯影溫度范圍是20~25℃。顯影時(shí)間對(duì)PS版的顯影質(zhì)量有直接的影響，顯影時(shí)間不足，非圖像部分的感光層不能徹底溶解，會(huì)引起版面起臟。