為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術的發(fā)展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。 次數用完API KEY 超過次數限制

因此需要合理設計鍍膜設備的抽氣系統(tǒng)，保證膜材蒸汽分子到達基片表面的速率高于殘余氣體分子到達的速率，以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染，提高膜層的純度。此外，在10-4Pa時真空室內殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上)，水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會發(fā)生化學反應，生成氧化物而釋放出氫氣。因此，為了減少殘余氣體中的水分，可以提高真空室內的溫度，使水分解，也是提高膜層質量的一種有效辦法。還應注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前，可先用擋板擋住基片，然后對膜材加熱去氣。 次數用完API KEY 超過次數限制

后處理，涂面漆。第三節(jié)濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復性好，便于自動化，已適當于進行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節(jié)電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑。弧斑就是電弧在陰極附近的弧根。 次數用完API KEY 超過次數限制

由于模具型腔在高溫下工作，因此壓鑄模具性能的改善的需要具有以下特性在模具使用壽命內，必須保持在高溫和低溫交替條件下的型腔面精度和變形量。因此壓鑄模具的材料除了應具備有塑料模具的特點外，還應該具有you秀的抗高溫性能、硬度、抗yang化性、回火穩(wěn)定性和抗沖擊韌性，具有良好的導熱性和kang疲勞性，傳統(tǒng)壓鑄模具采用淬火，回火，拋光的處理工藝，對材料本身的硬度提高有限，同時溫度由于工作溫度接近或者超過回火溫度，易造成模具的二次回火造成模具硬度降低和，模具變形。 次數用完API KEY 超過次數限制